■マグネトロンスパッター装置

■電子ビーム真空蒸着装置

概要
本装置は、前進的な試料作りを目的とし清浄高真空中で電子ビームにより特にMg合金を初めとする全ての金属に適した蒸着装置として開発された装置です。

特長
1. 真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、全て電磁バルブを使用した全自動排気系であります。
2. 到達圧力は液体窒素トラップ無しで10 -5Paに入ります。
3. メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上します。

■3KV イオン銃(SIG030)

概要
3KVイオン銃は、超高真空中で試料表面のクリーニングを目的として「Arスパッタイオン銃」で、薄膜作成準備、表面分析の実験研究用として利用されています。

仕様
1. ビーム電圧 : 3KV
2. フィラメント電流 : 5A
3. ビーム径 : φ10mm(MAX)
4. ビーム電流 : 25μA
5. 動作真空度 : E-3Pa台(Ar)
6. べーク温度 : 250℃(単体)
7. 取付フランジ : ICF114

オプション
ビームアライメント機構 偏光レンズ(X-Y)
差動排気機構
ガス導入機構

■3KV イオン銃電源(IGP030)

特徴
SPUTTER ION SOURCE 3KVイオン銃(SIG030)用制御電源は、オートエミッション機構を有し、安定したイオン源です。

仕様
1. 加速電源 : +3KV 2mA
2. イオン化電源 : +150V 0.3A
3. フィラメント電源 : AC20V 5A(オートエミッション)
4. レンズ電源 : -3KV 0.5mA
5. 入力電源 : AC100V
6. インターロック機構 : 標準装備
7. 電源ケース : JIS150×480×430